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主要技術指標：真空度達1X10-6乇，襯底溫度可達100度直流濺射電源功率1000瓦 功能/應用范圍：有2個DC濺射靶，可以在真空狀態下濺射生成一類材料薄膜或多層不同薄膜，...
上海楊浦區
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主要技術指標：離子束：30kv分辨率7nm，加速電壓2-30kv。電子束：鎢燈絲電子槍 功能/應用范圍：材料微細加工及樣品制備。 主要測試和研究領域：材料/珠寶首飾電子/信息...
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主要技術指標：真空度<1e-6mBar，薄膜淀積速率1~10nm/min 功能/應用范圍：離子束濺射，可用于金屬薄膜淀積和樣品物理刻蝕 主要測試和研究領域...
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主要技術指標：重復頻率1KHz,單脈沖能量600微焦耳，脈沖寬度50fs 功能/應用范圍：超快光譜學、非線性光學 主要測試和研究領域：電子/信息技術 收費標準：其它收...
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主要技術指標：樣品尺寸為4寸硅片濺射室極限真空優于1.210-6Pa，進樣室(loadlock)真空優于6.710-4Pa淀積薄膜厚度均勻性優于3%襯底可加熱，溫度最高可達800oC 功能/應用范...
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主要技術指標：極限真空：成膜室1.210-6Pa(loadlock)準備室6.710-4Pa樣品尺寸：4寸(1片/次)可通3路氣體：Ar、N2、O2(50sccm)。可做普通濺射、共濺射和反應濺射，可對樣...
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主要技術指標：電子槍功率3kW，本底真空10E-9Torr，6寸旋轉樣品托(可液氮冷卻)，坩堝5*2.24cc 功能/應用范圍：蒸鍍各種金屬薄膜 主要測試和研究領域：電子/信息技...
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