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激光共聚焦顯微鏡 (confocal laser fluorescence microscopy)
主要技術指標：1、熒光共聚焦觀察，63X，100X油鏡，倒置2、全內反射成像 功能/應用范圍：功能：三維熒光成像、FILP，FRAP，FRET等應用范圍：納米材料、物理、化學、高分子、...
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主要技術指標：1.分辨率EnergyResolution:在MnKa線處測量分辨率≤127eVEnergyresolution≤127eV,atMnKaline2.超輕元素分辨率LightElementEnergyResolution:在FKa線處測量分...
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場發射透射電子顯微鏡(Field Emission Transmission Electron Microscope)
主要技術指標：點分辨率：0.24nm,晶格分辨：0.102nm,信息分辨率：0.14nm,STEM分辨率：0.20nmEDS(能譜儀)能量分辨率：<127eV,元素范圍：Be-Cf 功能/應用范圍：納米材...
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電子束蒸發系統 (Electron Beam Evaporator)
主要技術指標：.真空<3X10-9托 功能/應用范圍：現有功能：a.三個室:進樣室、分析室、生長室。b.二個蒸發源、一個P型摻雜源和一路反應氣體c.反射高能電子衍射儀(RHEED)d.四...
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硅分子束外延系統 (Silicon Molecular Beam Epitaxy System)
主要技術指標：真空<1X10-9torr 功能/應用范圍：SiliconMolecularBeamEpitaxySystem(RiberEva-32)two-chambersystemfacilitatedwithtwoe-beamsources,Band...
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物理特性測試系統 (physical property measurement system)
主要技術指標：溫度范圍：1.9-400K；磁場：+-9TACMS選件：交流磁化率：2*10-8emu；直流磁化率：2.5*10-5emu；VSM選件：直流磁化率：10-7emuACT交流電輸運；Resistivity電阻(<=4M歐姆...
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飛秒脈沖激光器系統 (Ultrafast Pulse laser system)
主要技術指標：飛秒脈沖激光系統，脈沖寬度為150fs，單脈沖能量為800uJ(波長800nm處)，重復頻率為1000Hz 功能/應用范圍：可以研究fs量級的動力學過程，測量光子壽命&nbs...
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磁光測量低溫恒溫系統 (magneto plasmadynamic measurement low temperature
主要技術指標：用于磁光效應的檢測，可以測量其偏振性，相干性 功能/應用范圍：磁體，光學測量 主要測試和研究領域：材料/珠寶首飾其他...
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拉曼熒光光譜儀 (Raman fluorescent Spectrograph)
主要技術指標：配有633nm激光，也可以引入其他波長激光器，鏡頭有10，40，50倍，可以進行熒光的測量和拉曼散射的測量 功能/應用范圍：測量熒光光譜，拉曼散射譜 ...
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光子壽命測量控制裝置 (Photon life measurement control equipment)
主要技術指標：可以測量fs量級的粒子壽命，研究光學材料的性能 功能/應用范圍：測量光子壽命 主要測試和研究領域：材料/珠寶首飾其他...
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熒光光譜儀 (Fluorescence spectroscope)
主要技術指標：焦距320mm孔徑f/4.1光譜范圍150~1500nm，用1200條/mm光柵；光柵尺寸68mmx68mm支座上最多可裝光柵數3平場尺寸30mmx12mm分辨率(用出口狹縫和光電倍增管時)0.06nm波...
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氧化物薄膜分子束外延設備 (oxide molecular beam exptaxy system)
主要技術指標：真空度10e-9mbar8個單質蒸發源單原子層精度控制氧化物薄膜生長襯底10X10mm 功能/應用范圍：小尺寸氧化物薄膜生長 技術特色：單原子層精度控制氧化...
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主要技術指標：實時顯示數據結果，10秒鐘以內成像方式，脫離對傳統膠片等化學污染品的依賴，整個系統應具有多自由度調節，可以任意調整到需要的實驗位置。換樣時間小于5分鐘，方便迅速。...
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