檢測認證人脈交流通訊錄
- 本裝置由本公司與浙江大學(xué)共同研制。 鍍膜原理為真空濺射離子、電子飛速運動，放電離子飛速轟擊機臺靶面，濺擊大量（銀、銅等）介質(zhì)，原子逐步沉積到基片襯底表面成膜。 實驗內(nèi)容： ●不同金屬材料薄膜制備； ●利用空陰極放電制備了CU和Ag涂層研究空陰極對薄膜結(jié)構(gòu)； ●在光學(xué)材料上薄膜的制備及特性的測量的影響； ●研究離子轟擊對膜性質(zhì)的影響。 技術(shù)參數(shù)： ●真空系統(tǒng)：旋片式真空泵，單相220V； ●工作氣壓：10~200Pa； ●工作電壓：0~1500V可調(diào)，工作電流0~200mA可測量； ●基臺加熱控溫系統(tǒng)室溫200度； ●濺射鍍膜鐘罩直徑140mm，高度150mm； ●基臺可升降，可調(diào)范圍：10~50mm； ●儀器配有鍍膜片，另配顯微鏡、清洗機。
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