儀器介紹

   K450X使用碳絲在真空下進(jìn)行鍍膜。蒸鍍?yōu)楦鱾€(gè)方向，全自動(dòng)操作系統(tǒng)使得工作時(shí)間相對(duì)減少，只需5分鐘。系統(tǒng)采用低電壓，高電流，電極之間放置碳絲。電極裝置上裝備了保護(hù)快門(mén)，保護(hù)樣品在蒸碳除氣過(guò)程中免受熱輻射損害。當(dāng)完成了這個(gè)過(guò)程，快門(mén)自動(dòng)回縮，并且全部功率加到電極上，從而引發(fā)了熔融碳絲的快速燒灼或稱“閃蒸”。這時(shí)，快門(mén)回到了保護(hù)位置。

  控制可被預(yù)先選擇，以允許使用不同類型的碳絲。

  由于樣品臺(tái)到電極之間的距離可調(diào)以及全自動(dòng)控制功能，使得本儀器實(shí)現(xiàn)了允許可重復(fù)的蒸鍍沉積厚度。真空循環(huán)和外部旋轉(zhuǎn)真空泵均完全由本儀器控制。

主要特點(diǎn)

·全自動(dòng)控制

·自動(dòng)保護(hù)快門(mén)

·均勻厚度沉積，使用碳絲或碳繩超范圍鍍膜

·具有微控制器全自動(dòng)控制,可選的儲(chǔ)存參數(shù)人工控制系統(tǒng)

·菜單驅(qū)動(dòng)“用戶”鍵輸入
 

·操作容易

·在碳絲除氣過(guò)程中保護(hù)樣品

·可再生的鍍膜

·多種用戶都容易操作
 

 技術(shù)參數(shù)

1.儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H

2.工作腔室：硼硅酸鹽玻璃165mm Dia x 125mm H

3.安全鐘罩：聚碳酸酯

4.重量：18Kg

5.碳源：碳絲

6.樣品臺(tái)：直徑為60 mm（到電極距離為60mm），具有傾斜裝置的旋轉(zhuǎn)臺(tái)

7.真空范圍：ATM - 1x10-2 mbar

8.安培計(jì)：0.50 Amps

9.低電壓：25 V

10.除氣電流：可根據(jù)碳源類型選擇。

11.電源：230 伏 50Hz (10 amp max. 包括泵)