檢測認證人脈交流通訊錄
- ETD-2000/3000型離子濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，最簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。
常規Au /Pt 金靶
主要特點：
1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監控儀器狀態；
2. 濺射電流調整控制器、微型真空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得最佳鍍膜效果；
3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象；
4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經久耐用；
5. 根據電場中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。
配置參數：
靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.12mm
真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm
樣品臺及工作距離：高配旋轉樣品臺，簡配固定樣品臺，高度手動調節
濺射面積： Ф50mm，最大放置
真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar
離子電流表： 最大電流：50mA(100mA)
定時器： 最長時間：900S
微型真空氣閥： 可連接φ3mm軟管
可通入氣體： 多種
最高電壓： -1600（-3000）DCV
機械泵： 2L/S （120L/min）
樣品表面離子清潔（選配）
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