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硅鍍金反射鏡片

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出廠價：
80

主要規(guī)格：
直徑20mm/25mm/30mm

用　　途：
激光設備反射鏡

材質硅基鍍金本類可選規(guī)格:直徑,25mm其它規(guī)格無貨特性:耐高溫,反射率高硅材料及硅金鏡片技術簡介: 硅，通常應用于中紅外（MIR）波段—3-5um。但事實上，這種材料可用于更加廣泛的工作波長范圍，從1.2um到1000um 甚至更高。為了提高在工作波長范圍內的透過率，我們生產出了三個等級的光學材料：光學卓克拉爾斯基硅（OCz-Si），浮區(qū)硅（FZ-Si），高電阻率浮區(qū)硅（HRFZ-Si）。對于硅種類的選擇，取決于波長范圍、元件厚度和具體應用。我們應用適當結構的晶體（生產技術，導體類型，電阻），以保證得到最佳的透過率。正確選擇材料的主要原則如下。還須注意，透過率不依賴于晶體軸向而改變。在圖1中，透射光譜在近紅外和中紅外范圍內，你可以看到，在3-5um范圍，所有規(guī)格的硅和電阻之間，透過率沒有什么區(qū)別。同時，所有規(guī)格的硅的晶體吸收峰值在6.5-25um范圍內被所規(guī)定的晶格吸收。OCz-Si具有5.8-9.1um的額外高峰，在19.4um處被氧氣誘導并震動吸收。由于氧濃度稀薄（OCz-Si, 10E16 cm-3---10E18 cm -3），FZ-Si在氧氣峰值處可以避免被吸收，可以應用于更多關鍵應用領域。物理特性密度, g/cm3 2.329 熔點, °C 1412 分子重量 28.09 表面張力, liquid at mp, mN/m 736 25 C熱線性膨脹 2.55 x 10-6 27 C導熱率, W/(m x °C) 159 特殊熱容量 (固體), J/(kg x °C) 712 25°C導熱系數折射率 1.50 x 10-4 內在電阻率, kOhm x cm 240 1 Ohm x cm (n-type) = 1015/cm3 2.93 1 Ohm x cm (p-type) ?= 1015/cm3 7.33 內在電子漂移移動性, cm2/(V x s) 1500 內在電子數目/ cm-3 1.22 x 1010 內在孔漂移的流動性 / cm2/(V x s) 600 最小帶隙， eV 300 K 1.14 0 K 1.17 斷裂模數, MPa 125 莫氏硬度 7 楊氏模量 (E), Pa 1.89 x 1010 剪切模量 (G), Pa 7.99 x 1010 泊松比 0.266 水溶性不可溶硅在各種波長下的折射率 l, mm n l, mm n l, mm n 1.40 3.4900 4.50 3.4270 7.00 3.4227 1.50 3.4841 5.00 3.4256 7.14 3.4226 1.66 3.4700 5.28 3.4250 7.30 3.4225 1.82 3.4600 5.50 3.4246 7.50 3.4224 2.00 3.4561 5.70 3.4243 7.72 3.4222 2.50 3.4431 5.83 3.4241 8.00 3.4220 3.00 3.4360 5.92 3.4239 8.16 3.4220 3.30 3.4326 6.00 3.4238 8.50 3.4218 3.50 3.4317 6.50 3.4232 9.00 3.4216 4.00 3.4289 6.92 3.4228 9.09 3.4215 參考公式，ε0 = 11.67，靜態(tài)介電常數，波長無限遠處，硅折射率參數接近3.416（在我們的示例中1000um或更遠）。咨詢電話：13681438403 李利平

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趙陽

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