檢測認證人脈交流通訊錄
美國Filmetrics 光學膜厚測試儀
- 主要規格:
- F20.F20、F30、F40、F50 F80
- 用 途:
- 光阻膠.半導體材料.絕緣體材料.金屬材料.等鍍層薄膜厚度測量
- 美國Filmetrics公司生產的薄膜厚度測量儀利用反射干涉的原理進行無損測量,可測量薄膜厚度及光學常數。測量精度達到埃級的分辯率,測量迅速,操作簡單,界面友好,是目前市場上最具性價比的薄膜厚度測量設備。設備光譜測量范圍從近紅外到紫外線,波長范圍從215nm到1700nm可選。凡是光滑的,透明或半透明的,或是對光有吸收的膜層都可以測量。其可測量薄膜厚度在10埃到350微米之間,測量精度高達1埃,測量穩定性高達0.7埃,測量時間只需一到二秒。可應用于光阻、半導體材料、高分子材料等薄膜層的厚度測量,在半導體、太陽能、液晶面板和光學行業以及科研院所和高校都得到了廣泛的應用和極大的好
評。并有手動及自動機型可選。
高級膜厚測試儀系統F20
使用F20高級分光計系統可以簡便快速的測量厚度和光學參數(n和k)。您可以在幾秒鐘內通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數。任何具備基本電腦技術的人都能在幾分鐘內將整個桌面系統組裝起來。
F20包括所有測量需要的部件:
分光計、光源、光纖導線、鏡頭集合和windows下運行的軟件。
您需要的只是接上您的電腦。
膜層實例
幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括:
SiO2(二氧化硅)
SiNX(氮化硅)
DLC(類金剛石碳)
Photoresist(光刻膠)
Polyerlayers(高分子聚合物層)
Polymide(聚酰亞胺)
Polysilicon(多晶硅)
AmorphousSilicon(非晶硅)
基底實例:
對于厚度測量,大多數情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學常數測量,需要一塊平整的鏡面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要進行處理使之不能反射。包括:
Silicon(硅)
Glass(玻璃)
Aluminum(鋁)
GaAs(砷化鎵)
Steel(鋼)
Polycarbonate(聚碳酸脂)
Polymerfilms(高分子聚合物膜)
應用:
半導體制造
液晶顯示器
光學鍍膜
Photoresist光刻膠
CellGaps液晶間隙
HardnessCoatings硬鍍膜
Oxides氧化物
Polyimide聚酰亞胺
Anti-ReflectionCoatings增透鍍膜
Nitrides氮化物
ITO納米銦錫金屬氧化物
Filters濾光
標準配置和規格:
F20-UVF20F20-NIRF20-EXR
只測試厚度|30A~20μm|150A~50μm|1000A~250μm|150A~250μm
測試厚度和n&k值500A~5μm|1000A~5μm|3000A~10μm|1000A~10μm
波長范圍|220-850nm|400-1000nm|950-1700nm|400-1700nm
準確度|大于0.4%或10A
精度|1A|2A|1A
穩定性|0.7A|1.2A|0.7A
光斑大小|5μm至1cm可調
樣品大小|1mm至300mm及更大
探測器類型|512-元素硅|512-元素|512-元素
砷化銦鎵硅&砷化銦鎵陣列
光源|正規鎢鹵素燈
電腦要求|5MB硬盤空間2MB空閑內存USB接口
電源要求|100-240VAC,5-60Hz,0.3-0.1A
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