檢測認(rèn)證人脈交流通訊錄
- 納米粒度測量——優(yōu)良的動態(tài)光背散射技術(shù)
Zeta電位測量:MicrotracMRB以其在激光衍射/散射技術(shù)和顆粒表征方面的獨(dú)到見解,經(jīng)過多年的市場調(diào)研和潛心研究,開發(fā)出新一代NANOTRACWAVEII微電場分析技術(shù),融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測量于一體,無需傳統(tǒng)的比色皿,一次進(jìn)樣即可得到準(zhǔn)確的粒度分布和Zeta電位分析數(shù)據(jù)。與傳統(tǒng)的Zeta電位分析技術(shù)相比,NANOTRACWAVEII采用優(yōu)良的“Y"型光纖探針光路設(shè)計(jì),配置膜電極產(chǎn)生微電場,操作簡單,測量迅速,無需精確定位由于電泳和電滲等效應(yīng)導(dǎo)致的靜止層,無需外加大功率電場,無需更換分別用于測量粒度和Zeta電位的樣品池,*消除由于空間位阻(不同光學(xué)元器件間的傳輸損失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,分散介質(zhì)的影響,顆粒間多重散射等)帶來的光學(xué)信號的損失,結(jié)果準(zhǔn)確可靠,重現(xiàn)性好。
測量原理:
粒度測量:動態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理
Zeta電位測量:膜電極設(shè)計(jì)與“Y"型探頭形成微電場測量電泳遷移率
分子量測量:水力直徑或德拜曲線
光學(xué)系統(tǒng):
3mW780nm半導(dǎo)體固定位置激光器,通過梯度步進(jìn)光纖直接照射樣品,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號,無需校正光路
軟件系統(tǒng):
優(yōu)良的FLEX軟件提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形,數(shù)據(jù)輸出/輸入,個性化輸出報告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出,Internet共享數(shù)據(jù),MicrosoftAccess格式(OLE)等。體積,數(shù)量,面積及光強(qiáng)分布,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)的完整性符合21CFRPART11安全要求,包括口令保護(hù),電子簽名和指定授權(quán)等。
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