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檢測認證人脈交流通訊錄
- 專用電子束光刻系統
自動化、穩定性和吞吐量
徽標EBPGPlus淺灰色
EBPGPlus高性能納米光刻系統可在100kV電壓下提供高達8英寸的能力。其全自動化、高速和高分辨率可以為中心的操作以及半導體制造產生的光刻技術。
憑借其創新的架構和具有吸引力的擁有成本，VOYAGER納米光刻系統降低了高速電子束光刻的準入門檻。
RAITH150兩個標志
RAITH150兩個直寫工具提供超高分辨率EBL和出色的成像能力。亞8納米結構可以在從幾毫米到8英寸晶圓的樣品尺寸上實現，而熱穩定性即使在具有挑戰性的環境中也能支持最高性能。
多技術電子束光刻系統
靈活性、多功能性和SEM成像
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