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全自動離子濺射儀全自動操作

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    •   全自動離子濺射儀是一種用于在掃描電鏡樣品制備、電極材料研究等領域中,通過磁控方式實現高真空環境下的精確鍍膜的設備。離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結構設計及人機界面方面更加注重人性,簡單智能。   全自動離子濺射儀全自動操作,簡單易用。該儀器非常適合用于鎢燈絲、臺式掃描電鏡等應用。它具有以下功能:   (1) 濺射電流自動調整:在設定了濺射電流后,系統會自動調節真空度,以達到設定的濺射電流。調整時間小于5秒,波動范圍小于±5%。用戶無需按下“實驗”鍵來調整濺射電流,也無需操作“進氣閥”。   (2) 濺射時間自動記憶:對于同類樣品,只需進行一次設定即可。   (3) 參數改變自動調整:在濺射過程中,用戶可以隨時調整濺射電流和濺射時長。系統會自動計算疊加,無需終止濺射過程。   (4) 工作完成自動放氣:當濺射過程完成后,系統會自動放氣,方便用戶取出樣品。   (5) 樣品臺高度調節1秒完成:用戶可以通過簡單的操作快速調節樣品臺的高度,節省時間和精力。   (6) 濺射過程可以利用曲線顯示,清晰直觀:用戶可以通過曲線圖來觀察濺射過程的變化,更加直觀地了解實驗進展情況。   全自動離子濺射儀(射頻磁控濺射鍍膜儀)主要應用于配套掃描電鏡的樣品制備工作,同時可以滿足不同用戶對樣品涂層的制備要求。擁有優秀的濺射系統,可以更換不同的金屬靶材(金,鉑,銀,銥,鉻,銅等),實現高要求的細粒涂層。GVC系列為您提供優質的樣品制備,輕松助您取得更好地材料研究樣品, 獲得高質量的顯微鏡觀測效果。   http://www.gevee-tech.com.cn/product/198.html

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