檢測認證人脈交流通訊錄
- WS-1000MLaurell-WS半導體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構造，可內置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統，可選擇WS-1000濕法刻蝕設備，WS-1000系列旋轉處理濕法設備可以被配置成測試模塊構造，安裝簡便，易于拆卸，更便于操作者控制。
一、半導體濕法刻蝕設備功能：
●涂敷Coating
●刻蝕Etching
●顯影Developing-Aqueous/Solvent
●清洗Cleaning-Aqueous/Solvent
●可選配,Sulfuric硫化物/Peroxide，溶液處理(insitumixing)
●可選配,HBr溶液處理
●帶溫控的顯影功能
●沖洗甩干
二、半導體濕法刻蝕設備特點：
●全PP材質構造
●可集成Laurell勻膠旋涂系統
●有排孔的濕站操作臺(易清潔)
●特殊設計的濕站壓力系統Wetplenum
●帶流量計的排液管道
●各類組件的隔離設計（散熱原件，泵浦和壓力容器等）
三、半導體濕法刻蝕設備材料選擇：
可以根據應用選擇更高級的材料；
●WS-1000-CP5符合SEMIS93標準應用在消防安全和潔凈空間等領域。CP5符合UL94V-O火災分類標準。它具有優良的平衡的物理性能，耐化學藥品性和耐火性。
●WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合嚴格的FMRC4910測試標準，滿足多方面條件下的難燃性，自熄特點和徹底燃燒。這種先進的材料也達到或超過產生低煙和小毒副產品的檢測標準。
WS1000濕法刻蝕機如有需要歡迎訪問以下網址與我們取得聯系
http://www.mycro.net.cn/mycro-SonList-1339523/
https://www.chem17.com/st119375/erlist_1339523.html
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