檢測認證人脈交流通訊錄
- 射頻磁控濺射鍍膜儀
主要應用于配套掃描電鏡的樣品制備工作，同時可以滿足不同用戶對樣品涂層的制備要求。擁有優秀的濺射系統，可以更換不同的金屬靶材（金，鉑，銀，銥，鉻，銅等），實現高要求的細粒涂層。GVC系列為您提供優質的樣品制備，輕松助您取得更好地材料研究樣品， 獲得高質量的顯微鏡觀測效果。
GVC-1000 全自動離子濺射儀(射頻磁控濺射鍍膜儀)性能參數
1、離子濺射儀工作原理：磁控濺射
2、可選靶材：金，鉑，金鈀合金，鉛，銀，銅，鉻，銻等
3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃
4、全自動操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等
（1）濺射電流自動調整——設定濺射電流后，系統自動調節真空度，從而達到設定的濺射電流，調整時間＜5s，波動范圍＜±5%；
（2）無需按“實驗”鍵調整濺射電流、無需操作“進氣閥”。
（3）濺射時間自動記憶——同類樣品一次設定即可；
（4）參數改變自動調整——濺射過程中可以隨時調整濺射電流和濺射時長，系統自動計算疊加，無需終止濺射過程；
（5）工作完成自動放氣；
（6）樣品臺高度調節1秒完成；
（7）濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀。
（8）極限真空：小于1Pa
5、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠
（1）真空度高于100Pa，啟動真空保護，無法濺射；
（2）濺射電流高于50mA，停止濺射過程；
（3）真空泵工作時，系統無法進行放氣操作；
6、鍍層均勻，導電性良好。
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