檢測認證人脈交流通訊錄
- 反射膜厚儀
可在幾秒鐘內完成高精度的薄膜厚度測量，實現便捷高效的無損測量。其基本原理是：光源發出的光經光纖導出后照射在樣品表面，樣品表面與基底反射的光產生干涉，通過其相位變化與波程差可測量薄膜厚度及光學常數。相比于其他的薄膜厚度測量儀器，具有經濟適用，構造及維護簡單，使用方便等優點。
F20反射膜厚儀單點測量系統
樣品要求：透明或半透明薄膜
薄膜厚度：1nm~3mm
基底（厚度測量）：表面光滑，可反射光線
基底（光學常數測量）：平整，鏡面反射
可測量多層薄膜樣品
膜厚、折射率和消光系數
設定掃描圖案，自動測量，速度2point/s
內置多種圖案，用戶可自建掃描圖案
全自動XY工作臺
F30在線厚度測量系統
測量速度快，可實時監控薄膜沉積生長情況
測量沉積率、沉積層厚度、光學常數 (n 和 k 值) 和半導體以及電介質層的均勻性
精度＜±1%
非接觸式測量，可以在沉積室進行測量
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