德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統 Quantum X ，并榮獲創(chuàng)新獎。該系統是世界first基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。該系統的面世代表著Nanoscribe已進軍現代微加工工業(yè)領域。具有全自動化系統的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業(yè)需求。
Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統技術要點
這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，*設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的*要求。
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