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安捷倫電感耦合等離子光譜儀ICP

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　　安捷倫電感耦合等離子光譜儀ICP 　　使用平板等離子體技術降低氬氣消耗　　利用 PerkinElmerZL的平板等離子體技術，氬氣消耗只有螺旋負載線圈系統的一半，即可形成同樣強健、同樣耐高鹽基體的等離子體。這種全新的射頻發生方式，可使射頻發生器免維護，從而zui*程度上降低操作成本，同時不影響性能。平板等離子體技術在任意RF功率下只需 8 公升/分鐘的等離子體氣流量。　　使用 eNeb 樣品導入系統可實現 2 到 4 倍的更佳檢出限　　使用革新的 eNeb（電子噴霧器）系統，樣品可地更有效、更GX地導入 Optima 中。基于精密制造的惰性噴霧頭，eNeb 可形成直徑不超過 6 微米的大小一致的液滴。這些大小一致的小液滴可更快速地干燥、霧化和電離，達到的檢出限比使用其他樣品導入系統可達到的檢出限好 2 到 4 倍。　　eNeb 的噴霧頭采用堅固耐用的惰性聚合物制成，提供良好的基體相容性、耐酸性和精確性，是所有樣品類型（包括含有高鹽的樣品類型）的理想選擇。　　高級光學系統確保的檢出限　　為了增強光輸出量，Optima 儀器上的光學系統提供的檢測限，更容易滿足美國 EPA、EN 和 DIN 規定。使用 DynamicWavelength Stabilization（型號 8000）可確保非凡穩定性和分析準確性。　　ZL的等離子雙向觀測提GX率　　可以使用同一種方法測量高濃度和低濃度的元素，從而提高處理量和效率。　　軸向觀測提供zuidi的檢出限，而徑向觀測的觀測高度可變，可擴充工作范圍和消除電離效應。　　*的切割氣消除了干擾　　這項革新技術通過消除離子的冷尾焰消除了干擾。由于它使用的是空氣，而不是氣體流量極大的抽風系統或者易于阻塞需要清洗的接口錐，尾焰切割系統免維護，可提高性能并使線性動態范圍更大。消除尾焰也從zui*程度上降低了添加昂貴的電離YZ劑的需要。　　https://www.chem17.com/st348538/product_36061082.html 　　http://www.bangxintech.com/ParentList-2251295.html

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