檢測認證人脈交流通訊錄
- 原位程序升溫反應系統是在標準樣品臺基礎上搭建四電極反饋控溫的加熱模塊,在掃描電鏡中實 現樣品的氣氛、液氛環境及固體樣品高分辨成像和精準、均勻、安全控溫,溫度精度優于±0.1k,z高溫 度1000℃。通過精確的熱場模擬及獨特的芯片設計,實現無漂移加熱過程,可在加熱升溫過程中實現實 時觀測成像。樣品臺上的原位芯片采用特殊的組裝和密封方式與電鏡的真空阻隔,避免電鏡受到污染和損 壞。
獨特優勢:
1.超高分辨率
a.超薄氮化硅膜(25-50nm)
b.分辨率優于10nm 精確度、
2.靈敏度高
a.四電極形成反饋控制系統,控溫準
b.觀測區域全覆蓋,升溫快且均勻
3.穩定性好
a.科學設計,漂移率***小化
b.樣品臺與芯片匹配良好,芯片不漂移
原位程序升溫反應系統參數指標表:
樣品臺尺寸
φ50×50mm
溫度范圍
rt~1000℃
適用樣品
靜態&流體氣、液環境,固體
氣體壓強
0-2000mbar
分辨率
優于10nm
窗口膜厚
25~50nm
液體池厚度
200~2000nm
溫度精度
±0.1k
加熱均勻性
≥99.5%
加熱電極數
4
安全性
**
漂移率
<0.5nm/min
旋轉角度
±180°
適用電鏡
zeiss,fei,jeol,hitachi,others
inlens/ebsd
√
eds/wds
√
應用領域:
1.氣體環境加熱 :熱催化、 水汽重整 、石油裂解 、煤制油 、合成氨
2.液體環境加熱 :納米催化劑合成、 溫致反應過程 、溶劑熱過程
3.固體直接加熱 :ebsd***地質巖石礦物、 化工高
分子材料 、新能源電池材料 、半導體
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