檢測認證人脈交流通訊錄
- 一、真空加熱臺腔體設備特點：
本真空樣品加熱臺腔體為桌面式高溫。用于少量樣品功能陶瓷，光學材料，碳復合材料，硬質合金，粉末冶金等在高溫條件下進行燒結處理，也可用于對樣品高溫真空環境的電信號測試。
二、真空加熱臺腔體技術參數：
1、額定功率：1KW
2、額定溫度：1650℃，長期使用溫度≤1600℃
3、有效熱臺尺寸：φ50mm(深*寬*高)
4、真空觀察窗口：φ27
5、加熱臺材質：高純氮化硼
6、加熱器：鎢片加熱
7、測溫方式：B型熱電偶
8、冷態極限真空：(機械泵≤5Pa)(分子泵1×10-3pa)
7、電源：AC220V50HZ
8、溫控器功能：30段數顯溫度程序控溫儀+功率調整電壓器/超溫報警/電流電壓反饋
9、儀表控溫精度：±1℃
真空加熱臺
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