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離子鍍是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種鍍膜新技術(shù)，將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領(lǐng)域，整個氣相沉積過程都是在等離子體中進行的。離子鍍大大提高了膜層粒子能量，可以獲得更優(yōu)異性能的膜層，擴大了“薄膜”的應(yīng)用領(lǐng)域。是一項發(fā)展迅速、受人青睞的新技術(shù)。 

離子鍍膜的特點是：鍍膜時，工件（基片）帶負(fù)偏壓，工件始終受高能離子的轟擊。形成膜層的膜基結(jié)合力好、膜層的繞鍍性好、膜層組織可控參數(shù)多、膜層粒子總體能量高，容易進行反應(yīng)沉積，可以在較低溫度下獲得化合物膜層。