檢測認證人脈交流通訊錄
LASERTEC 光掩模缺陷檢測系統 MATRICS X700系列
- 主要規格:
- hp45nmノード以降の最先端フォトマスクの欠陥検査?品質管理に最適な裝置 位相シフトマスク(EPSM、APSM)及びOPC(Optical Proximity Correction=光近接効果補正)マスクに対応 光源に自社開発の213nm全固體レーザーを搭載し、高感度欠陥検出を達成 OHT自動搬送との接続等フレキシブルなインターフェイスが可能(オプション)
- 用 途:
- 「フォトマスク欠陥検査裝置 MATRICS X700シリーズ」は、レーザー?光関連産業の発展に大きく貢獻したことが評価され、一般社団法人レーザー學會より、レーザー學會産業賞「奨勵賞」を受賞いたしました。
- 特長
hp45nmノード以降の最先端フォトマスクの欠陥検査?品質管理に最適な裝置
位相シフトマスク(EPSM、APSM)及びOPC(Optical Proximity Correction=光近接効果補正)マスクに対応
光源に自社開発の213nm全固體レーザーを搭載し、高感度欠陥検出を達成
OHT自動搬送との接続等フレキシブルなインターフェイスが可能(オプション)
「フォトマスク欠陥検査裝置 MATRICS X700シリーズ」は、レーザー?光関連産業の発展に大きく貢獻したことが評価され、一般社団法人レーザー學會より、レーザー學會産業賞「奨勵賞」を受賞いたしました。
用途
ウェハファブにおけるフォトマスクの受入検査および定期検査、ヘイズ検査
マスクショップにおける出荷前検査(ペリクル貼り付け後も検査可能)
仕様
検査方式 マルチダイモード(アレイモード含む)、 シングルダイモード 及びこれらの複合検査
検査光 3モード(透過光、反射光、透過/反射同時照明光)
検出感度 最高感度25nm ※検出感度は欠陥タイプ?検査方式により異なります
検査時間 105分 / 100mm2(ノーマルスキャン)
60分 / 100mm2(ファーストスキャン)
マスクサイズ 6025
深圳京都玉崎株式會社
- 地址:
- 江蘇蘇州市高新區竹園路7號中梁香緹商務廣場2棟1201室
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