檢測認證人脈交流通訊錄
- 激光刻膜機技術參數:
型號規格 SEF-G5
有效加工幅面 1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ）
最大運行速度 2000mm/s
重復定位精度 ±10μm
刻線直線度 ±10μm / 1000 mm
典型刻膜線寬 30～60μm
三線外沿總寬度 300～500μm
激光刻膜機選項和配件：
高標配，可根據需要移除不需要的部件。
激光刻膜機應用和市場：
非晶硅薄膜太陽電池的透明導電膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背電極膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜）
武漢三工光電設備制造有限公司0
王小姐
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