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上海納騰儀器有限公司

檢測認證人脈交流通訊錄

低應力氮化硅薄膜窗口

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    • 1.產品簡介 SHNTI的氮化硅薄膜窗口是一款價格非常優惠的產品，應用也非常廣泛。它可以應用在TEM、X-Ray、SEM等等分析測試上。 在TEM上，可以完全避免碳膜的背景影響；在X-Ray上能夠實現軟X-射線（如真空紫外線）的最大透射率。特別在“離軸”狀態工作（即薄膜與光束成一定角度）時，也需要較薄的薄膜窗口，便于X射線的更好穿透。 現有技術一般采用計量式或ST氮化硅薄膜，但ST薄膜具有較高的殘余應力，不夠結實，容易破裂。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口是一種低應力的承載工具（也可以作為微型培養皿、支撐膜），改進了原有技術的缺陷。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口具有良好的透光性、平整性、耐高溫、化學惰性、親水性、實用性、穩定性等。 2.產品規格 標準氮化硅薄膜規格（基底厚度525um或200um）： Standard silicon nitride film window specifications (substrate thickness of 525um or 200um) 1、外框5mm×5mm，窗口大小1.5mm×1.5mm，膜厚50/100/150/200nm Frame 5mm×5mm，window size 1.5mm×1.5mm，thickness 50/100/150/200nm 2、外框7.5mm×7.5mm，窗口大小3mm×3mm，膜厚50/100/150/200nm Frame7.5mm×7.5mm，window size 3mm×3mm，thickness 50/100/150/200nm 3、外框3mm直徑，窗口大小0.1mm×0.1mm×9，膜厚20/50/100nm Frame diameter 3mm，window size 0.1mm×0.1mm×9，thickness 20/50/100nm 4、外框3mm直徑，窗口大小1mm×1mm，膜厚20/50/100/150nm Frame diameter 3mm，window size1mm×1mm，thickness 20/50/100nm 5、外框3mm直徑，窗口大小0.1mm×1.5mm×2，膜厚20/50/100nm Frame diameter 3mm，window size0.1mm×1.5mm×2，thickness20/50/100nm 非標準氮化硅薄膜窗口接受客戶要求定制，但是訂購量多，價格會降低。（一般建議100片以上訂購，平均單價會比較低。）

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