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硅片表面UV光清洗設備

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出廠價：
0

主要規格：
200*200mm有效清洗面積

用　　途：
清洗硅片表面有機物，改善親水性，減小接觸角，硅片表面改質

銷售部:陳先生電話：0755-33592313 Q Q:574665317 EMAIL: hwotech@gmail.com 紫外臭氧清洗機HW200 紫外臭氧清洗機HW200適用于中小型生產和科研工作，用于清洗產品基片的表面有機物，即進行表面改性，表面張力變小，從而獲得較好的個表面親水性，其有效清洗尺寸為200mm*200mm（8英寸）。另外也可以根據客戶需求設計清洗設備。產品配置電源：220V；有效清洗面積：200mm*200mm；燈管：特殊格冊狀石英燈管，壽命3000-5000小時；時間控制：0-99小時或分鐘；清洗托盤：清洗托盤高度可以手動任意調節；進氣口：可通過設備背面進氣口輸入所需氣體；排風功能：自帶抽風機，可調節風速；產品特點 ◇ 大氣中處理，簡單方便，環保無二次污染，無需加熱、藥液等處理。 ◇ 清潔度極高，單分子層以下，可以得到其它處理方法難以達到的清潔度、接著性。 ◇ 國內獨有的超高出力短波長紫外線光源，僅需短時間（秒單位）照射，發揮強大的處理能力。 ◇ 不對材料的表面產生損傷。 ◇ 相對于濕式清洗成本低。 ◇ 沒有液體表面張力的影響，超微細部的清洗容易。產品應用 1 液晶表示元件基板　　2 記憶盤片　　　　　3 IC基板　　　　4 壓電元件 5 IC外裝材　　　　　　6 微電容器件　　　　7 水晶振動子　　8 石英玻璃.ITO玻璃 9 光學器件　　　　　　10 磁頭及其掛鉤件　 11 半導體晶片　 12 各種塑料表面 13 各種金屬表面　　　 14 各種橡膠　　　　 15 各種玻璃　 16 各種陶瓷表面……等等各種固體表面除被清洗外，多種材料表面還被改性的表面具有更強的接著性能。紫外光清洗工作原理 VUC低壓紫外汞燈能同時發射波長254nm和185nm的紫外光，這兩種波長的光子能量可以直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵，使有機物分子活化，分解成離子、游離態原子、受激分子等。與此同時，185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個光敏氧化反應過程是連續進行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會不斷的生成和分解，活性氧原子就會不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強烈的氧化作用，與活化了的有機物（即碳氫化合物）分子發生氧化反應，生成揮發性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機污染物。紫外光表面清洗原理表達式：低壓紫外汞燈發射的185nm和254nm波長的紫外光除有清洗去除物體表面的有機污染物的功能外，而且還能夠進行表面改質。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開的同時拉出H原子和C原子，與空氣中的氧氣分解出來的活性氧（O）生成極性很強的原子團（OH，CHO，COOH）即羥基等活性基，同時材料表面有機污染物的清洗效果顯著，活化的基體表面具有良好的粘合力和鍵合特性，這些羥基和涂料、粘合劑、電鍍材料相結合，形成新的化學鍵，從而使材料表面得到通常情況下得不到的很強的粘結強度，或者使材料得到穩定的表面性能。

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