檢測認證人脈交流通訊錄
- 多弧離子鍍膜是一種在真空中將冷陰極自持弧光放電用于蒸發源的鍍膜技術。具有膜層密度高、附著力強、沉積速度快以及能使基體材料 (金屬) 表面合金化等特點。
弧源特點—— 一根柱狀靶，弧斑沿著靶長方向作有規律的上下往復運動，并沿著靶表面旋轉掃描向360度方向輻射鍍膜 ，靶材刻蝕均勻利用率高、色差小、工藝穩定。
利用此技術及設備優勢，制造成本低，運行穩定，操作方便，鍍膜工藝重復性好，膜層均勻無液滴產生，膜層致密。廣泛應用于陶瓷工藝品、大理石、地磚等鍍鈦金；炭鋼、不銹鋼、鋅鋁合金等基體鍍仿金（ＴiN、ZrN）、黑鈦。
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