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  • 物質(zhì)元素成分分析及物質(zhì)元素解析

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  • 對應法規(guī):v5
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  • 物質(zhì)元素成分分析、物質(zhì)元素解析、物質(zhì)元素剖析

     

     

    物質(zhì)成分分析包括采用光譜(紫外、紅外、核磁);色譜(氣相色譜、液相色譜、離子色譜);質(zhì)譜(質(zhì)譜儀、氣質(zhì)連用、液質(zhì)連用);能譜(熒光光譜、衍射光譜);熱譜(熱重分儀、示差掃描量熱儀)對樣品進行綜合解析,通過多種分離和分析方法的聯(lián)合運用,對樣品中的各組分進行定性和定量分析,從而確定物質(zhì)中各組分的結(jié)構(gòu)。

     

    在眾多的分析方法中,X射線能譜分析是最常用的初步分析元素成分的方法,這種分析方法的優(yōu)勢是它能將微區(qū)元素成分與顯微結(jié)構(gòu)對應起來,是一種顯微結(jié)構(gòu)的成分分析,而一般的化學成分分析、熒光分析及光譜分析是分析較大范圍內(nèi)的平均元素組成,無法與顯微結(jié)構(gòu)對應,不能直接對材料顯微結(jié)構(gòu)與材料性能關(guān)系進行研究。

     

    我們能分析主要是確定物質(zhì)中含量在0.1%以上的元素成分。在測試過程中,對于不導電的試樣,例如陶瓷、剝離、有機物等,在電子探針的圖像觀察、成分分析時,會產(chǎn)生放電、電子束漂移、表面熱損傷等現(xiàn)象,造成分析點無法定位、圖像無法聚焦。大電子束流時,有些試樣電子束轟擊點會起泡、熔融。為了使試樣表面具有導電性,必須在試樣表面蒸鍍一層金或者碳等導電膜。

     

    X射線能譜分析方法中包括點分析、線分析和面分析。

     

    點分析是指入射電子束固定照射(轟擊)試樣表面所選區(qū)域的分析。本方法適用于入射電子束對試樣表面一個很小區(qū)域進行快速掃描。點分析區(qū)域一般為幾個立方微米到幾十個立方微米范圍。該方法用于顯微結(jié)構(gòu)的定性或定量分析。

     

    線分析是電子束沿試樣表面一條線逐點進行的分析。線分析的各分析點等距并具有相同的電子探針駐留時間。電子束沿一條分析線進行掃描時,能獲得元素含量變化的線分布曲線。線分析適用于判斷元素分布的均勻性。線掃描范圍通常小于100um。

     

     

     

     

     

    面分析是指用能譜儀輸出的特征X射線信號強度來調(diào)制顯示器上電子束掃描試樣對應的像素點的亮度所形成的圖像。面分析是用元素面分布像觀察元素在分析區(qū)域內(nèi)的分布。研究材料中雜質(zhì)、相的分布和元素偏析常用此方法。EDS面分析范圍一般沒有限制,但電子束掃描范圍太大,例如在幾十倍放大倍率下掃描時,均勻的元素面分布會由于電子束入射角的變化而變的不均勻。對于低含量元素無法顯示元素面分布特征,故元素面分布一般與相同部位的形貌像對照分析。

     


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