射線檢測

利用射線（X射線、γ射線和中子射線）在介質(zhì)中傳播時的衰減特性，當將強度均勻的射線從被檢件的一面注入其中時，

由于缺陷與被檢件基體材料對射線的衰減特性不同，透過被檢件后的射線強度將會不均勻，用膠片照相、

熒光屏直接觀測等方法在其對面檢測透過被檢件后的射線強度，即可判斷被檢件表面或內(nèi)部是否存在缺陷（異質(zhì)點）。

磁粉檢測

由于缺陷與基體材料的磁特性（磁阻）不同穿過基體的磁力線在缺陷處將產(chǎn)生彎曲并可能逸出基體表面，

形成漏磁場。若缺陷漏磁場的強度足以吸附磁性顆粒，則將在缺陷對應(yīng)處形成尺寸比缺陷本身更大、

對比度也更高的磁痕，從而指示缺陷的存在。

滲透檢測

利用毛細管現(xiàn)象和滲透液對缺陷內(nèi)壁的浸潤作用，使?jié)B透液進入缺陷中，

將多余的滲透液出去后，殘留缺陷內(nèi)的滲透液能吸附顯像劑從而形成對比度更高、

尺寸放大的缺陷顯像，有利于人眼的觀測。