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CNAS認(rèn)可項(xiàng)目：是 切片試驗(yàn)(含金相觀察) 紅墨水試驗(yàn) 焊點(diǎn)推拉力測(cè)試 X-Ray測(cè)試 試驗(yàn)項(xiàng)目 SEM掃描電鏡
+EDS成份分析SEM EDS 切片+SEM/EDS X-Ray+CT測(cè)試 C-SAM超聲波掃描 精密切割機(jī) BUEHLER Isomet-1000 最高轉(zhuǎn)速：1000rpm 研磨拋光機(jī) BUEHLER Beta / 金相顯微鏡 ZEISS AXIO Imager.A1m 最大放大倍率：1000X；明場(chǎng)、暗場(chǎng)、偏光 立體顯微鏡 ZEISS Stemi 2000-C / 推拉力測(cè)試儀 DAGE SERIES4000 推力：0-100kgf，拉力：0-10kgf；精度0.025% X-Ray Feinfocus FXS-100.40 請(qǐng)參考該實(shí)驗(yàn)室測(cè)試項(xiàng)目第9項(xiàng) 設(shè)備名稱 品牌 型號(hào) 功能規(guī)格&能力范圍 場(chǎng)發(fā)射電子掃描顯微鏡 JOEL JSM-6701F Resolutiom:1.0nm(15kV) Magnification:25x~650000x
Max specimen:200mm Stage:80mm x40mm
Image:Secondary Analysis:Back scatter EDS場(chǎng)發(fā)射電子掃描顯微鏡 JOEL JSM-6701F Resolutiom:1.0nm(15kV) Magnification:25x~650000x
Max specimen:200mm Stage:80mm x40mm
Image:Secondary Analysis:Back scatter EDS場(chǎng)發(fā)射電子掃描顯微鏡 JOEL JSM-6701F Resolutiom:1.0nm(15kV) Magnification:25x~650000x
Max specimen:200mm Stage:80mm x40mm
Image:Secondary Analysis:Back scatter EDS精密切割機(jī)/研磨拋光機(jī)/金相顯微鏡 場(chǎng)發(fā)射電子掃描顯微鏡 BUEHLER/ZEISS/ JOEL 同實(shí)驗(yàn)室5、6、7項(xiàng) 以上內(nèi)容可查找 X射線計(jì)算器斷層掃描檢測(cè)系統(tǒng) PHOENIX V|TOME|X S 240 X射線管電壓：30~160Kv 特征分辯率：0.95μｍ
幾何(系統(tǒng))放大倍率：1200X (5650X) 最大檢測(cè)面積18″X16″ (458X407mm) 斜角范圍 0~70°（360°全方位檢測(cè)） 輻射安全標(biāo)準(zhǔn) <1μSv/hr（符合歐美標(biāo)準(zhǔn)）超聲波掃描
分析儀
(C-SAM)Sonoscan D-9000 230MHz探頭分辨率： 4~11μm 探頭頻率： 15MHz/30MHz /50MHz/230MHz
檢測(cè)零件封裝缺陷（如：分層、裂縫、空洞等）自動(dòng)芯片開(kāi)封機(jī) Nisene JetEtch 檢測(cè)分析零件內(nèi)部芯片表面及焊接金線是否正常 離子色譜儀 DIONEX ICS-1000 測(cè)試樣品溶液的組分和離子濃度﹐常測(cè)離子包括﹕F-﹑Cl-﹑NO2-﹑Br-﹑NO3-﹑PO43- SO42- 沾錫能力測(cè)試儀 RHESCA SAT-5100 對(duì)Dip、SMT電子組件、PCB板、錫膏的焊錫情況進(jìn)行分析 芯片開(kāi)封測(cè)試 表面離子濃度測(cè)試 沾錫能力測(cè)試
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