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機(jī)構(gòu)登錄
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檢測認(rèn)證人脈交流通訊錄
- 儀器名稱：高真空電子束微觀監(jiān)測刻蝕系統(tǒng)
- 價格型號：EVO MA10
- 儀器分類：刻蝕設(shè)備
- 應(yīng)用領(lǐng)域：
- 所屬單位：江蘇大學(xué)
- 所在地點：
- 產(chǎn) 地：
- 產(chǎn) 商：德國Zeiss公司
- 價 值：0
- 購置日期：0000-00-00
技術(shù)指標(biāo)：分辨率: 3.0nm@30KV（SE and W）2.0nm@30KV(SE with Lab6 option) 4.5nm@30KV(VP with BSD)；加速電壓: 0.2―30KV；放大倍數(shù): 7―1000000x；視野范圍: 6mm；X-射線參數(shù): 8.5mmWD，35度接收角；壓力范圍: 10―400Pa；工作室: 310mm(φ)×220mm(h)；5軸試樣載物臺: X=80mm Y=100mm Z=35mm T=0-90°R=360°；最大試樣高度: 100mm；最大試樣直徑: 200mm；系統(tǒng)控制: 基于Windows XP的SmartSEM。
儀器用途：高真空條件下對金屬、無機(jī)、聚合物、生物生命組織等多種材料、各種微結(jié)構(gòu)進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征和功能器件物理性能測試，以及具有納米高空間分辨條件下進(jìn)行電子束加工、改性等。
收費標(biāo)準(zhǔn)：電話聯(lián)系商議
機(jī)組負(fù)責(zé)人：李保家 13913443010
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