檢測(cè)認(rèn)證人脈交流通訊錄
技術(shù)指標(biāo):限真空度: 主濺射室6.6×10-5Pa,進(jìn)樣室5×10-4Pa;工作真空度可調(diào)靶:磁控靶/射頻靶,水冷,射頻靶2×φ50,直流靶1×φ50 襯底: 多片樣品,可水冷,可加熱結(jié)構(gòu): 主濺射室φ350×280,夾壁水冷。
儀器用途:制備各種單層或多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜。該設(shè)備為在材料(金屬、非金屬)表面制備具有多種特殊性能的膜層的專用設(shè)備,是物理氣象沉積{PVD}這一先進(jìn)材料技術(shù)的必需硬件,可用于進(jìn)行材料表面改性、表面金屬-無(wú)機(jī)復(fù)合、表面鍍膜等類型的研究。
收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn):40元/小時(shí)
機(jī)組負(fù)責(zé)人:蘇大為 0511-88791184


