技術(shù)指標(biāo)：限真空度： 主濺射室6.6×10-5Pa，進(jìn)樣室5×10-4Pa；工作真空度可調(diào)靶：磁控靶/射頻靶，水冷，射頻靶2×φ50，直流靶1×φ50 襯底： 多片樣品，可水冷，可加熱結(jié)構(gòu)： 主濺射室φ350×280，夾壁水冷。

儀器用途：制備各種單層或多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜。該設(shè)備為在材料（金屬、非金屬）表面制備具有多種特殊性能的膜層的專用設(shè)備，是物理氣象沉積｛PVD｝這一先進(jìn)材料技術(shù)的必需硬件，可用于進(jìn)行材料表面改性、表面金屬-無(wú)機(jī)復(fù)合、表面鍍膜等類型的研究。

收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)：40元/小時(shí)

機(jī)組負(fù)責(zé)人：蘇大為  0511-88791184