檢測認證人脈交流通訊錄
- 儀器名稱：超高真空磁控濺射臺
- 價格型號：JGP480
- 儀器分類：材料生長、鍍膜設備
- 應用領域：
- 所屬單位：南京航空航天大學
- 所在地點：
- 產 地：
- 產 商：中科院沈陽科學儀器有限公司
- 價 值：0
- 購置日期：0000-00-00
技術指標：濺射真空室尺寸:480*280 ,極限真空:6.6*10-4Pa,磁控靶靶材尺寸:4*60,樣品臺加熱溫度:800度,電源配置及總功率:50Hz,380v,220v,10kw.
儀器用途：納米級的單層及多層功能膜--各種硬質膜,金屬膜,半導體膜,介質膜,鐵磁膜和磁性薄膜等的研究開發.
收費標準：200元/樣品
機組負責人：陳建康 84895871
