技術指標：真空配置：真空系統采用干泵+冷凝泵， 光學膜厚儀監控波長范圍：350-1100nm，波樘精度：<±1nm， 配置射頻輔助等離子源，離子流密度分布均勻， 裝片：6片六英寸襯底，或6片四英寸，30片兩英寸襯底。 基底最高加熱溫度：350℃。 極限真空：低于5.0E-5Pa　 恢復真空：15分鐘之內達到8.0E-4Pa 目前可淀積材料包括：SiO2、MgF2、OS50、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3 蒸發速率0.5A/s-5A/s，蒸發功率0-40%，；工作真空：1E-3Pa，溫度20-350度，氣體（Ar、O2），蒸發料（SiO2、TiO2、Ta2O5、ZrO2、MgF2、ZnS、OS50、ITO等

儀器用途：光學薄膜泛指在器件表面用物理化學等方法沉積，利用光的干涉現象以實現增透、高反射、濾光、分光等光學現象。例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍地減小；采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高；利用光學薄膜可提高太陽能電池的效率和穩定性。 "主要用于光學增透膜、高反膜、ITO、截止濾光片等光學薄膜蒸鍍，配備兩把電子槍和射頻等離子體輔助源，一次可蒸鍍六寸片6片，兩寸片30片，薄膜不均勻性≤±5%

收費標準：1000元/小時+470元/次工藝

機組負責人：張嬪  051262872625  pzhang2008@sinano.ac.cn