檢測認證人脈交流通訊錄
- 儀器名稱：等離子體增強化學氣相沉積機
- 價格型號：Plasmalab System100
- 儀器分類：其它
- 應用領域：
- 所屬單位：中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所
- 所在地點：
- 產 地：
- 產 商：oxford
- 價 值：0
- 購置日期：0000-00-00
技術指標：SiH4流量0-50sccm，N20流量0-2000sccm，NH3流量0-500sccm，溫度范圍80-350度，RF功率范圍0-300W
儀器用途：主要用于SiO2、SiNx、a-Si等介質膜的生長，一次可放置兩寸片5片，四寸片和六寸片1片，薄膜不均勻性≤±3%。 預約友情提示：低溫工藝，請預約每天早上的第一爐工藝；摻雜（包括PH3、GeH4、B2H6、H2）、a-Si每天下午15:00以后可以預約。此類工藝請至少提前一天預約，以便設備做好相應準備。
收費標準：400/30分鐘
機組負責人：張嬪 0512-62872625 pzhang2008@sinano.ac.cn
