技術指標：濺射速率0.1A/s-10A/s; 反濺射功率0-200W; 濺射功率50-500W; 濺射厚度： 普通金屬（Ni、Al、Ti、Ag、Cr、Cu）5nm-2000nm; 貴重金屬（Pt、Au、Pd）5nm-500nm; 氣體（Ar、O2、N2）; 流量范圍0-100 sccm; 背底真空：8E-6 Torr; 溫度：20-400 ℃;

儀器用途：主要用于濺射Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn等金屬薄膜，AlN、SiO2等介質薄膜，一次可濺射兩寸片5片，四寸片和六寸片1片，向下尺寸兼容，薄膜不均勻性≤±5%。為不影響他人工藝，以及有充足的時間對設備進行維護，氧化物濺射工藝只安排在周五、周六進行。每日18:00-19:00時為加班人員短暫休息和用餐時間，涉及到貴重金屬的使用，工藝時需有工作人員在場，非工藝特別趕的情況，請盡量避開預約此段時間。 1.5小時起預約。

收費標準：450元/小時+300元/次工藝＋材料費: 50元/10nm(Au及合金、Pd)或75元/10nm(Pt) 或50元/100nm (其它材料)

機組負責人：張嬪  0512-62872625  pzhang2008@sinano.ac.cn